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    ASML2017年光刻机全球市占率，其EUV光刻机实现全球垄断;Nikon2017年光刻机全球市占率，相较ASML在价格方面具备一定优势;?Canon主要集中于面板等领域，**光刻机市场参与不多;SMEE为全球LED光刻机主要供应商，作为国内**光刻机的**，2018年3月其所承担的“02专项”“90nm光刻机”通过国家验收，为全球第四家掌握光刻机系统设计与系统集成技术的企业，但相较于ASML**的先进水平仍有差距。2）刻蚀机:芯片线宽的缩小以及新制造工艺的采用使刻蚀机使用量有所增加刻蚀机为晶圆制造三大主要设备之一，包括两种基本的刻蚀工艺，分别为干法刻蚀与湿法腐蚀。其中，干法刻蚀(**为等离子体干法刻蚀)为主流刻蚀技术，湿法腐蚀常用于尺寸较**于3微米)场景或去除干法刻蚀后的残留物。根据被刻蚀材料的不同，干法刻蚀还可以进一步分为金属刻蚀、介质刻蚀、硅刻蚀。竞争格局:根据TheInformationNetwork的统计数据，2017年全球刻蚀机主要供应商包括泛林半导体(LamResearch)、东京电子(TokyoElectron)、应用材料(AppliedMaterials)，其全球市占率分别为55%、20%、19%。国内供应商以中微公司、北方华创为**，预计国内市占率接近20%。 全球的半导体设备制造商主要分布在美国、荷兰、日本等地报关服务公司。成都半导体设备进口报关咨询热线

硅片边缘曝光机系列——芯片级封装工艺应用SMEE开发的硅片边缘曝光机提供了满足芯片级封装工艺中对硅片边缘进行去胶处理的能力，设备可按照客户要求配置边缘曝光宽度、硅片物料接口形式、曝光工位等不同形式。设备同时兼容150mm、200mm和300mm等三种不同规格的硅片，边缘曝光精度可到达。设备配置了高功率光源，具有较高的硅片面照度，提高了设备产率。至纯科技成立于2000年，主要为电子、生物医药及食品饮料等行业的先进制造业企业提供高纯工艺系统的整体解决方案，产品为高纯工艺设备和以设备组成的高纯工艺系统，覆盖设计、加工制造、安装以及配套工程、检测、厂务托管、标定和维护保养等增值服务。该公司在2016年前产品约一半收入来自医药类行业，光伏、LED行业及半导体行业收入占比较小。2016年以来，公司抓住半导体产业的发展机遇，逐步扩大其产品在半导体领域的销售占比，2016和2017年来自半导体领域收入占公司营业收入比重分别为50%和57%，占据公司营业收入半壁江山。主攻半导体清洗设备。该公司于2015年开始启动湿法工艺装备研发，2016年成立院士工作站，2017年成立的半导体湿法事业部至微半导体。 中国台湾代理半导体设备进口报关费用多少半导体生产线设备进口清关物流公司，半导体进口清关物流公司。

得益于储存芯片和逻辑芯片对10/7nm先进工艺的强劲需求，早些的预测都看好2018年半导体设备的稳健增长。2017年半导体设备支出将达到创纪录的历史比较高水平，截止目前看来，这种势头很可能会持续到2018年。今年，由于对3DNAND闪存和程度稍小的DRAM的巨大需求，半导体设备制造商发现自己正处于一个意想不到的繁荣周期之中。但在逻辑/代工业务方面，2017年的设备需求却相对温和。尽管该行业在2018年将难以超过2017年创纪录的增长数字，不过对设备需求看起来仍很强劲。事实上根据目前的预测，预计集成电路设备市场将会有一点降温，在2018年看到更正常一点的增长模式。据VLSIResearch的数据显示，2017年半导体设备市场总值预计达704亿美元，较2016年上升％。同样根据VLSIResearch的预测，到2018年IC设备市场预计将达到735亿美元，比2017年增长％。图1：半导体设备市场增长数据来源：VLSIResearch当然，预测很可能变化，因为有许多可能会影响半导体设备行业的因素。和以前一样，经济因素和问题在这个领域扮演着重要的角色。不过，半导体设备供应商仍很乐观。应用材料公司市场和业务发展副总裁ArthurSherman说：“我们预计2018年是WFE。

组件生产设备:关注半片/多主栅/叠瓦技术带来的设备端升级需求焊接与层压为光伏组件生产工艺流程中重要的两个环节。常规光伏组件的构成包括电池片、互联条、汇流条、钢化玻璃、EVA、背板、铝合金、硅胶、接线盒九个部分，工艺流程可概括为焊接→叠层→层压→检测，其中，焊接、层压作为关键的两道工序，将直接影响成品率、输出功率与可靠性。光伏组件设备已实现国产化。光伏组件设备包括常规串焊机、多主栅串焊机、叠瓦串焊机、激光划片机、叠层设备、层压机、测试设备等，其中，串焊机为设备。竞争格局:光伏组件设备以国内供应商为主，其中，奥特维串焊机产品占存量市场总量约40%，为该领域之一;金辰股份主要供应光伏组件自动化生产线、层压机等;先导智能为国内锂电设备，于2019年始发丝印叠瓦焊接机产品。为追求更高光电转换效率从而实现降本增效，双面发电组件、半片电池组件、叠瓦组件、多主栅组件等先进组件技术正与高效电池技术相结合，多主栅串焊设备、与半片/叠瓦电池组件配套的设备需求占比将有所提升，具体为:半片:采用半片技术的电池组件将提升对于激光划片机的需求。多主栅:多主栅电池占比的提升将带来多主栅串焊机采购规模的增长。 常见一般机电设备有：机床设备、仪器设备、半导体设备、加工中心、冲床、铣床、光伏设备、磨床等各种设备。

公司参与认购中芯国际配售股份，公司作为fabless厂与晶圆代工厂中芯国际战略合作形成虚拟IDM，在产能上将有望优先获得中芯国际的支持，从而提高公司产品的占有率。收购思立微，形成MCU+存储+交互解决方案。2018年3月，公司收购国内市场的智能人机交互解决方案供应商思立微，其产品以触控芯片和指纹芯片等新一代智能移动终端传感器SoC芯片为主。本次交易将一定程度上补足公司在传感器、信号处理、算法和人机交互方面的研发技术，提升相关技术领域的产品化能力，在整体上形成完整的MCU+存储+交互系统解决方案，为上市公司进一步快速发展注入动力。公司牵手合肥产投，进军DRAM领域；入股中芯国际，形成虚拟IDM，提高产能扩充能力；收购思立微，形成MCU+存储+交互解决方案，为上市公司进一步快速发展注入动力。 进口半导体设备报关物流服务公司，进口半导体设备报关要求。加拿大办理半导体设备进口报关咨询报价

公司服务网点:上海、青岛、天津、大连、北京、宁波、福州、广州、深圳、厦门、武汉、成都 等以及沿海港口。成都半导体设备进口报关咨询热线

湿法设备:预计至2020年全球规模提升至37亿美元湿法设备分为槽式湿法设备与单片式湿法设备，由于集成电路线宽的不断缩小，单片式湿法设备成为主流。湿法晶圆清洗指通过离子水、清洗机等清洗晶圆表面并随之湿润再干燥，为主流的清洗方法。构成来看，湿法设备包括主要包括清洗设备、去胶机、湿法刻蚀机。半导体加工环节中，清洗占总工序超过三成。市场规模:根据SEMI的统计数据，2017年全球半导体清洗设备市场规模为，较2016年增长，预计至2020年将进一步提升至37亿美元。VLSI的数据显示，2018年全球前道单片式清洗设备销售额为，预计至2023年将提升至。通常，清洗设备占晶圆加工设备总投资约5%~6%。竞争格局:湿法清洗设备领域，全球主要包括日本迪恩士(DainipponScreen)、日本东京电子(TokyoElectronLimited)、美国泛林半导体(LamResearch)等，其中，SCREEN全球市占率约60%，行业市占率达。国内企业方面，主要包括盛美半导体、北方华创、屹唐半导体等。其中，盛美半导体基于SAPS与TEBO技术的单片清洗设备销量，其2017年全球市占率约，其在刻蚀、快速热处理(RTP)、光刻胶剥离与清洗等领域拥有技术优势。 成都半导体设备进口报关咨询热线

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